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半導體EUV的競爭戰火燒到周邊設備

2020/07/28

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       圍繞新一代的半導體製造技術「EUV(極紫外)」,設備企業的競爭日趨激化。東京電子將在2020財年(截至2021年3月)投入創出歷史新高的開發費,Lasertec的訂單額也在過去1年翻了一番。在EUV相關設備市場,荷蘭的ASML壟斷了核心的光刻機,但在檢測和光源等領域,日本企業的存在感也在提高。

 

      「如果EUV得到普及,更高端設備的需求將增加」,半導體製造設備全球第3大製造商東京電子社長河合利樹如此表示。2020財年將投入創出歷史新高的1350億日元研發費。

 

 

      東京電子的優勢是「塗佈顯影設備(Coater Developer)」。該設備用於在作為半導體材料的矽晶圓上塗覆特殊化學藥液使之顯影。在EUV量産設備領域,該公司的市佔率為100%。本財年的合併銷售額預計達到1.28萬億日元。其中的1成以上將用於研究開發,以在EUV的普及階段鞏固領先優勢。

 

      在每年超過6萬億日元的半導體製造設備市場,正在發生代際更迭。

 

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